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第二百零四章 深挖芯片材料,进军东南亚效仿大米?
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第二百零四章 深挖芯片材料,进军东南亚效仿大米?
“如果要用一句话概括,那就是这款光刻胶是我专门为多重曝光技术而设计的产品。”
当陈星听见这句话那刻,心中也泛起了波澜。
因为没有13.5极紫外光的EUV光刻机,各个环节都需要配合多重曝光技术去设计。
想弄更先进的光刻胶?
不好意思。
48纳米dUV光刻机不支持!
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